Установка импульсно-плазменного распыления с лазерным поджигом

Назначение и технические характеристики

Установка импульсно-плазменного распыления с лазерным поджигом Принцип работыу становки заключается в создании тлеющего разряда между водоохлаждаемым анодом и мишенью за счет энергии конденсаторной батареи необходимой емкости. В качестве рабочей среды используется небольшое количество паров, создаваемое предварительным испарением мишени с помощью лазера ЛТИ-207. Бомбардировка отрицательно заряженной мишени ионами плазмы во время ее жизни приводит к распылению мишени.

Установка выполнена на базе сверхвысоковакуумного поста УСУ-4; необходимые условия работы обеспечиваются оптической системой и нагревателем подложки. Разряд осуществляется в скрещенных магнитном и электрическом полях.

 

 

Метод позволяет осуществить:

  • скорость конденсации (>10 нм/с) в импульсе длительностью ~10 с;
  • отвод тепла от конденсата со скоростью охлаждения ~10 К/с;процесс ионно-плазменного распыления без рабочего газа;
  • сплошность конденсата наступает с h = 2 нм на начальной стадии роста (ряды 1 и 2 на зависимости ρ(h )).